一家专业从事等离子体表面处理设备的高科技技术企业
光学镜片的镀膜技术是整个光学系统的一个重要组成部分，良好的镀膜技术能改善镜片的折射率、阿贝数、散射、衍射和化学性能。光学薄膜真空镀膜技术一般采用物理气相沉积（PVD）技术，包括热蒸发、溅射、离子镀等方法。
电池隔膜锂电池隔膜基体材料主要包括聚丙烯、聚乙烯材料和添加剂。隔膜所采用的基体材料的优劣在于电解液的浸润性和吸液保湿能力直接的联系，由于基体材料的本身特性，浸润性交差，需用相应的工艺来提高其亲水性，而
使用OKSUN等离子体技术，对材料表面进行轰击，可有效去除表面污染物，使工件表面亲水性大大提高。清洗后的水滴夹角小于5度，为下道工序的进行奠定良好基础。
随着智能手机的飞速发展，人们对手机摄像头像素的要求越来越高，如今用传统的CSP封装工艺制造的手机摄像模组像素已达不到人们的需求，而用COB/COG/COF封装工艺制造的手机摄像模组已被大量的运用到了现在的千万像素的手机中
深圳市普仕曼科技有限公司是一家从事等离子体表面处理设备的高科技技术企业，主营常压（大气）等离子表面处理机台、低温等离子清洗机、宽幅在线等离子清洗等，普仕曼科技核心技术来自德国，超过15年从业经验。
15年从业经验，产品面涉及广泛
高稳定性、高性价比、高均匀性
精益求精、不断进取
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中国科学院上海应用物理研究所（简称上海应物所）成立于1959年，原名中国科学院上海原子核研究所，2003年6月改为现名。拥有上海嘉定园区（约400亩）和甘肃武威园区（约1000亩）。上海应物所是国立综合性核科学技术研究机构，以钍基熔盐堆核能系统、高效能源存储与转换等先进能源科学技术为主要研究方向，同时兼顾核技术在环境、健康、材料领域的若干前沿应用研究，致力于熔盐堆、钍铀燃料循环、核能综合利用等领域
近日，普仕曼科技成功与赣州兮泓永磁达成合作
在半导体制造设备中，光刻机、刻蚀机、薄膜沉积设备是三大主要的设备，根据 SEMI 测算数据，光刻机、刻蚀机、薄膜沉积设备分别约占半导体设备市场的24%、20%和20%。刻蚀是利用化学或物理方法有选择地
在本文将简要说明湿法蚀刻和干法蚀刻每种蚀刻技术的特点和区别。在半导体制造中，在处理基板或在基板上形成的薄膜的过程中，有一种称为“蚀刻”的技术。蚀刻技术的发展对实现英特尔创始人戈登·摩尔在1965年提出
刻蚀技术总述在20世纪60年代后期，湿法刻蚀曾经是低成本集成电路制造的关键技术。半导体工艺制程及芯片性能的不断迭代不断提升，随着制程进入六次微米级，基于化学反应的湿法刻蚀，已经跟不上芯片的精度要求了，
