德国ALLRESIST公司专门从事光刻工艺(紫外或电子束曝光工艺)所需电子化学品的研发、生产和销售。产品覆盖了各种光刻工艺中使用的紫外光学光刻胶、电子束光刻胶、特殊工艺用胶（剥离工艺光刻胶(LOR)、导电胶、耐酸碱刻蚀光刻胶、耐高温光刻胶(聚酰亚胺)等），以及相关工艺中配套的显影液、定影液、稀释剂、除胶剂、增附剂等化学试剂。 本期为您介绍AR-P 3740高分辨、高对比度紫外正胶，欢迎大家垂询！

近日，普仕曼科技成功与安吉尔饮水产业集团达成合作

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近日，普仕曼科技成功与全球领先的PCB&FPC制造企业欣兴集团达成合作，并向其提供大气等离子清洗方案！

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近日，普仕曼科技成功与中国顶尖的胶膜材料供应商，太仓展新胶粘材料股份有限公司达成战略合作并成功签约数台大气等离子清洗设备合同。

近日，普仕曼科技成功与国家级高新技术企业，精密汽车零部件供应商，长春英利集团签约，成为其”等离子清洗工艺独家供应商并中标大气压等离子清洗设备！

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近日，普仕曼科技成功与全球电致变色行业领衔者光羿科技签约，成为其”等离子清洗工艺独家供应商并中标大气压等离子清洗设备！

近日，普仕曼科技成功与香港科技大学签约，成为其附属机构“纳米及先进材料研发院有限公司”等离子清洗工艺独家供应商并中标数台自动化常压等离子清洗设备！香港科技大学（The Hong Kong Univer