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一家专业从事等离子体表面处理设备的高科技技术企业

关于我们

深圳市普仕曼科技有限公司是一家从事等离子体表面处理设备的高科技技术企业,主营常压(大气)等离子表面处理机台、低温等离子清洗机、宽幅在线等离子清洗等,普仕曼科技核心技术来自德国,超过15年从业经验。

  • 专业
    专业

    15年从业经验,产品面涉及广泛

  • 质量
    质量

    高稳定性、高性价比、高均匀性

  • 高效
    高效

    精益求精、不断进取

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    实业筑基、诚信至上

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  • 半导体专题篇六:刻蚀机
    2023-11-10

    在半导体制造设备中,光刻机、刻蚀机、薄膜沉积设备是三大主要的设备,根据 SEMI 测算数据,光刻机、刻蚀机、薄膜沉积设备分别约占半...

  • 干法刻蚀与湿法刻蚀的优劣详解
    2023-11-10

    在本文将简要说明湿法蚀刻和干法蚀刻每种蚀刻技术的特点和区别。 在半导体制造中,在处理基板或在基板上形成的薄膜的过程中,有一种称为&ldq...

  • 刻蚀工艺-干法刻蚀 & 关键因素:速率、...
    2023-10-09

    刻蚀技术总述 在20世纪60年代后期,湿法刻蚀曾经是低成本集成电路制造的关键技术。半导体工艺制程及芯片性能的不断迭代不断提升,随着制程进入六次微...

  • 蚀刻工艺的选择性和成本控制
    2023-10-09

    等离子体蚀刻可能是半导体制造中最重要的工艺,也可能是仅次于光刻的所有晶圆厂操作中最复杂的。几乎一半的晶圆制造步骤都依赖于等离子体,一种高能电离气体来完...

  • 电容耦合等离子刻蚀(CCP)
    2023-08-11

    CCP全称是Capacitively Coupled Plasma,即电容耦合等离子。是一种广泛用于芯片制造刻蚀的工艺,能够以极高的精度和对材料的最小...

  • 干法制程中的辉光放电
    2023-08-11

    在芯片制程中,几乎所有的干法制程,如PVD,CVD,干法刻蚀等,都逃不过辉光放电现象。辉光放电,是一种在低压下电离气体的过程,它在半导体制程中的许多重...

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