[优惠推广]AR-P 3740 高分辨率紫外正性光刻胶
德国ALLRESIST公司专门从事光刻工艺(紫外或电子束曝光工艺)所需电子化学品的研发、生产和销售。产品覆盖了各种光刻工艺中使用的紫外光学光刻胶、电子束光刻胶、特殊工艺用胶(剥离工艺光刻胶(LOR)、导电胶、耐酸碱刻蚀光刻胶、耐高温光刻胶(聚酰亚胺)等),以及相关工艺中配套的显影液、定影液、稀释剂、除胶剂、增附剂等化学试剂。
本期为您介绍AR-P 3740高分辨、高对比度紫外正胶,欢迎大家垂询!
3740产品特点:
- 紫外正性光刻胶
- 感光波段:Broadband UV、i-line(365nm)、g-line(436nm)
- 光刻胶厚度(1.5um@4000rpm,可稀释使用)
- 高分辨率(0.4μm@1.4μm)
- 高对比度(6.0)
- 优异的结构稳定性
- 优异的耐干法刻蚀性能
- 德国品质,性价比高
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3740应用领域:
- 亚微米精细结构的加工
- 集成电路加工
- 掩膜板制作
- 激光干涉曝光
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产品服务支持:
- 产品种类繁多,提供高质量紫外、电子束及特殊光刻胶及配套试剂
- 包装规格灵活多样(30ml,100ml,250ml,500ml,1L,2.5L等),适合多种规模的科研/生产需求
- 交货周期短,订购流程简单快捷
- 可为用户研发定制特殊功能光刻胶产品
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Structures 0.5 μmL/S (T 1.1μm)
Structures up to 1.0 μm(T 1.8μm)
Grating period about 300nm
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